Technische Informationen

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Dieser technische Teil hat zum Zweck, einige technische Aspekte der Mikronpulver-Qualitätskontrolle zu erläutern. Falls Sie weitere Objekte oder Einzelheiten hier beschrieben haben möchten, unterlassen Sie es nicht mit uns Kontakt aufzunehmen, per Mail an: Diese E-Mail-Adresse ist vor Spambots geschützt! Zur Anzeige muss JavaScript eingeschaltet sein!

Allgemeines

Die Qualitätsprüfung von Mikron-Dia­mant­pulver ist sehr umstritten, sie ist wenig bekannt und nur selten ist man sich darüber einig. Der Ursprung des Problems liegt offensichtlich in der geringen Grösse des Produktes, welches grosse Schwierigkeiten in der Qualitätsprüfung verursacht, die sehr personen- und instrumenten abhängig ist. Mikron-Diamant­pulver gehören zu den Produkten welche in der Regel nicht durch den Gebraucher selbst geprüft werden können. Sie müssen aber sehr präzis und regelmässig kalibriert sein. Dennoch gibt es keine anerkannte, ge­mein­same Mess­me­thode. Sämtliche Ver­su­che in Bezug auf eine Stan­dar­disie­rung dieser Methoden sind ge­schei­tert (siehe Produktnormen).

Nebst diesem technischen Problem gibt es noch einen menschlichen Faktor: Die kleine Dimension und die Art des Produktes verlangen einen hohen Aus­bil­dungs­stand, damit eine Person unter Anwendung eines etablierten Mess­verfah­rens und mit einem einzi­gen Messinstrument präzise und wie­der­hol­bare Resultate erreicht, dies sogar im einfachen Fall einer groben Mikron­körnung. Am feinen Ende de Mikronreihe wird das Problem noch grösser. Bei mehre­ren Personen und Prüfstellen ist das Problem sozusagen unlösbar.

Definitionen

Messeinheit
Die Messeinheit ist das Mikron oder Mikrometer (µ oder µm = 0.001mm). Es wird allgemein angenommen, dass die Partikel in ihrer grössten Länge ge­mes­sen werden, zumindest in den all­ge­mein gebrauchten Produkt-Be­zeich­­nun­­gen. Die allgemein ge­brauch­ten Mess­me­tho­den ent­spre­chen jedoch nicht immer dieser Definition, ausser wenn ausdrücklich vermerkt.

Körnungsbezeichnungen
Mikron-Diamantpulver werden üblicher­weise mit doppelzahligen Be­zeich­nungen beschrieben, wie z.B. 4-8µ, was bedeutet, dass sich die meisten Partikel zwischen diesen zwei Grössen befinden sollten. Einige Hersteller brauchen einzahlige Be­zeich­nun­gen. In diesem Fall wäre es , was die theoretische Mediane des Produktes darstellt.

Partikel-Grössenverteilungen

Partikel-Grössenverteilung
Mikron-Diamantpulver ist ein Schleif­mittel. Jedes Karat, die allgemein gebrauchte Gewichtseinheit (1Kt=0.2g), enthält zahlreiche Partikel. Hiermit ein Beispiel der in einem Karat Diamant­pulver schätzungsweise enthaltenen Partikel:
Körnung     Partikel p/Karat
30-60 660'000
10-20 17'000'000
4-8 262'000'000
2-4 2'050'000'000
0.75-1.25 62'000'000'000

Die Messung erfolgt also auf einem sehr kleinen Muster des Produktes, um seine statistische Partikel-Grös­sen­ver­tei­lung zu ermitteln, welche als Gewichtsverteilung oder, häufiger als Anzahlverteilung darge­stellt wird.

Eigenschaften der Verteilung
Die Partikelverteilung muss zwischen gewissen Grenzen liegen, welche übli­cher­weise durch den Hersteller bestimmt werden. Der Hauptwert ist die Mediane (d50) der Ver­teilung, also der Mittelpunkt der Verteilung. 50% aller Partikel befinden sich auf jeder Seite dieses Wertes. Die Mediane der Verteilung muss in gewissen Grenzen liegen, welche als Medianenbereich definiert werden. Manchmal bezieht man sich auf die Mittelgrösse der Verteilung, also das arithmetische Mittel der gemessenen Partikelgrössen. Die Breite der Verteilung muss ebenfalls definiert werden. Üblicherweise bezieht man sich auf eine obere Grenze wie d99 und eine untere Grenze der Verteilung.

Beispiel: Max. d99 bedeutet, dass der gemessene d99 der Verteilung nicht über dieser Grenze liegen darf. Min. d10 bedeutet, dass der gemessene d10 nicht unter dieser Grenze liegen darf. In gewissen Fällen wird eine maximale Standardabweichung vorgeschrieben. Mit gewissen Mess­ins­tru­men­ten ist dies eine einfachere Lösung. Die Standard­abweich­ung hat jedoch einen Nachteil: sie kann vom Instrumententyp und von der gebrauch­ten Mikronabstufung, oder der Kanal­breite des Ins­tru­mentes beein­flusst werden. Eichung und Musterfehler Die Eichung eines Messinstrumentes kann zu wesentlichen Problemen füh­ren, speziell zwischen unter­schied­lichen Instrumenten und Standorten. Unter Lieferanten können Eich­ungs­­dif­­feren­­zen schnell eine ganze Mikronkörnung betragen. In unterschiedlichen Stand­orten ausgeführte Messungen können also nicht verglichen werden. Ein gültiger Vergleich kann also nur aufgrund von Messungen eines einzigen Standortes stattfinden. In jedem Fall und bei jedem Mess­instru­ment muss gesichert werden, dass das gemessene Muster reprä­sen­ta­tiv für das Produkt ist. Das bedeutet, dass das Produkt durchaus homogen sein muss, sogar bevor es nach der Kalibrierung getrocknet wird. Ferner muss das zu messende Muster derart sorgfältig entnommen und vorbereitet werden, dass die Messung der Ver­teil­ung oder das Messverfahren nicht beeinflusst werden.

Eichung und Musterfehler
Die Eichung eines Messinstrumentes kann zu wesentlichen Problemen füh­ren, speziell zwischen unter­schied­lichen Instrumenten und Standorten. Unter Lieferanten können Eich­ungs­­dif­­feren­­zen schnell eine ganze Mikronkörnung betragen. In unter­schied­lichen Stand­orten ausgeführte Messungen können also nicht verglichen werden. Ein gültiger Vergleich kann also nur aufgrund von Messungen eines einzigen Standortes stattfinden. In jedem Fall und bei jedem Mess­instru­ment muss gesichert werden, dass das gemessene Muster reprä­sen­ta­tiv für das Produkt ist. Das bedeutet, dass das Produkt durchaus homogen sein muss, sogar bevor es nach der Kalibrierung getrocknet wird. Ferner muss das zu messende Muster derart sorgfältig entnommen und vorbereitet werden, dass die Messung der Ver­teil­ung oder das Messverfahren nicht beeinflusst werden.

Messmethoden

Ohne ein klar definiertes und dokumentiertes Konzept ist keine Messung möglich. Das Konzept ist von Stelle zu Stelle unterschiedlich und ist vorwiegend eine interne Konvention, welche auf firmeneigene Bedürfnisse, Wirtschaftlichkeit oder Bequemheit aus­ge­rich­tet ist. Dadurch variieren die Messergebnisse natürlich bedeutlich, schon infolge der ausgewählten Mess­me­thode.

Grösste Partikellänge
Diese direkte Partikelmessung ent­spricht natürlich der Definition einer Mikron­pulver-Bezeichnung. Es kommt auf allen optischen Instrumenten zur Anwendung, wie Projektionsmikroskop und Bildanalyse. Die Messdaten können direkt in eine Partikelgrössen-Verteilung umgewandelt werden. Für bedeutungsvolle Messungen benötigt diese Messmethode jedoch eine gute und regelmässige Partikelform. Die ähnliche Messung durch den um­schrie­be­nen Kreis kommt auf dem Pro­jek­tions­mikro­skop zur Anwendung.

Das Projektionsmikroskop ist das grund­le­gen­de und preisgünstige Instru­ment, welches normalerweise keiner Eichung bedarf, insofern es gut aus­ge­rüs­tet und eingerichtet ist. Es ist auf Mikronpulver beschränkt, welche keine Partikel unter 0.5µ enthalten, infolge von Diffraktion und der Wel­len­länge des Lichtes. Das Problem liegt im grossen Zeitaufwand der Messung, in der beschränkten Anzahl der gemes­se­nen Partikel und in der Not­wen­dig­keit einer hohen Operatoren-Ausbildung, um regelmässige Mes­sungen zu erhalten.

Die Bildanalyse ist das Vorzugsinstrument zur Messung der Partikellängen, in welchem die Partikel in einem mikro­sko­pi­schen Präparat automatisch gemessen werden. Die grösste Schwierigkeit liegt in der richtigen Auswahl der Ausrüstung, der geeigneten Eichung und den geeigneten Messprozeduren. Die Bildanalyse bietet auch zahlreiche zusätzliche In­for­ma­tio­nen, wie die gleichzeitige Messung der Partikelform, mit sehr guter Wie­der­hol­bar­keit. Die Bildanalyse ist auf der Sei­te der Prüf­me­tho­den weiter be­schrie­ben.

Partikelvolumen-Messung
Diese 'indirekte' Partikelmessung kommt weltweit, infolge der Ein­fach­heit, zu häufigem Gebrauch. Leider muss die daraus entstehende Volu­men­mes­sung üblicherweise danach in eine der Partikellänge ent­spre­chen­den Verteilung um­ge­wan­delt werden, ent­we­der durch die Eichung des Gerä­tes, oder durch die Anwendung eines arbiträren Multi­pli­ka­tors. Volu­men­mes­sung ist natürlich auf Partikelform total un­emp­find­lich, was bei einem Vergleich mit optischen Mes­sun­gen zu Pro­ble­men führen kann.

In Electrozone-Zählerinstrumenten, wie der ‘Coulter Multisizer’, werden die Partikel in einer elektrisch leitenden Flüssigkeit dispergiert (Salzlösung) und durch eine Kapillaröffnung ge­zwun­gen. Jedes Partikel ergibt beim Durchgang ein elektrisches Resis­ti­vi­täts­si­gnal, annähernd pro­por­tio­nal zum Partikelvolumen. Jedes Kapillar hat die Fähig­keit, Partikel im Bereich von ca. 5% bis 60% des eigenen Durchmessers zu erfassen. Die ent­stehende Anzahlverteilung der Par­ti­kel­­volu­men muss danach, durch die Eichung mittels Eichpulver oder sphärischem Latex und der Anwendung eines geeigneten ‘Formmultiplikators’, in eine Korngrössenverteilung um­ge­wan­delt werden. Die Wie­der­hol­bar­keit ist sehr gut, jedoch auf Pulver über ca. 1µ beschränkt.

Laserdiffraktions-Instrumente haben sich infolge der einfachen Handhabung vermehrt. Hier sind wir jedoch noch einen Schritt weiter vom gewünschten Ziel entfernt, da Volumenverteilungen der Partikelvolumen gemessen wer­den. Ein Laserstrahl wird durch eine Sus­pen­sion von Partikeln gesendet. Dieser wird proportional zu den Par­ti­kel­volu­men in unter­schie­dli­chen Win­keln diffraktiert, oder rückwärts auf eine Zielscheibe reflektiert. Es ist schwierig, eine bedeutungsvolle Korre­la­tion mit anderen Messungen zu fin­den, sogar mit den einfachsten opti­schen Messungen.

Übermasse und Partikelform

Überdimensionierte Partikel
Um seine Pflicht, d.h. eine ange­mes­sene Oberflä­chen­güte bei geeigneter Abtragsleistung, zu erzielen, sollte ein Mikronpulver keine allzu grosse Partikel enthalten. Für diesen Zweck kann auf dem gemessenen Muster eine optische Übermass-Prüfung durchgeführt werden. Diese hat jedoch infolge der relativ wenigen gemessenen Partikel keine grosse statistische Bedeutung. Um die Relevanz der Übermasskontrolle zu steigern, kann sie auf einem durch Sedi­men­tier­ung erhal­tenen Konzentrat der grössten Partikel durchgeführt werden. Die beste Garantie für eine gute Übermasskontrolle liegt jedoch in einem in jeder Beziehung bestens beherrschten Fabrikationsprozess, von der Kalibrierung bis zur Handhabung des Produktes, von der Abwesenheit von Verunreinigungen bis zur Reinheit der Gefässe, usw.

Partikelform
Die Partikelform ist ein weiteres wichtiges Qualitätsmerkmal für Mikron-Diamant­pulver. Für eine gute Leistung sollte ein Mikronpulver keine flache oder spiess­förmige Partikel enthalten. Diese können die Leistung des Pulvers und die Oberflächengüte beeinträchtigen. Sie können ebenfalls die Aussagekraft der Qualitätsprüfung direkt beein­flussen. Eine gute Partikelform ist eine blockige Form, ohne flache und spiessförmige, jedoch mit scharfen Schneid­kanten versehene Partikel. Beispiel: Ein Pulver bestehend aus schlecht geformten, spiessförmigen Partikeln wird durch gewisse Instru­mente als perfekte Verteilung gemes­sen, wenn die Messung auf dem Parti­kel­volu­men beruht. Bei der Messung der Partikellängen wird dieselbe Verteilung total bedeu­tungs­los sein. Die Leistung des Produktes wäre ebenfalls nicht im Verhältnis mit der gemessenen Korn­grösse. Hier bietet also die Messung der grössten Partikellänge einen zusätz­li­chen Quali­täts­vorteil.

Submikron-Körnungen

Messung der Submikron-Körnungen
Laserdiffraktions-Instrumente werden hier öfters eingesetzt, da diese kleinsten Partikel mit optischen oder Electrozone-Instrumenten nicht erfass­bar sind. Die Disczentrifuge ist jedoch infolge ihrer Leistung und Regel­mäs­sig­keit vorzuziehen. Dieses Messinstrument enthält eine mit ca. 600 bis 24’000 U/M angetriebene, durchsichtige, hohle und mit einer zentralen Öffnung versehene Scheibe. Diese Scheibe wird teilweise mit einer Flüssigkeit gefüllt, welche durch die Zentrifugalkraft an der Peripherie haftet und dessen Dichte gegen den Rand zunimmt. In die Scheibenmitte wird dann eine kleine Menge Par­ti­kel­sus­pen­sion gegeben, welche nach aussen sedimentiert. Die Sedimentationszeit ist proportional zur Partikelgrösse. In Nähe der Peripherie wird die Parti­kel­dichte mittels eines Laser­de­tek­tors als Funktion der Zeit gemessen. Dadurch ergibt sich eine Volumen-Verteilung der Partikelvolumen. Diese wird wiederum durch eine Eich­ungs­funk­tion in eine aus­sage­kräftige Par­tikel­ver­teilung um­ge­rech­net. Bei guter Installation und Kalibrierung eines Disczentrifugen-Systems (keine ein­fa­che Aufgabe) bietet die Disc­zen­tri­fuge zuverlässige und wie­der­hol­bare Mes­sun­gen im Sub­mikron­pulver-Bereich, mit einer unteren Mess­grenze von ca. 0.01µ.

Raster-Elektronmikroskop
Submikron-Pulver können mit anderen Instrumenten, z.B. zur Bewertung der Partikelform, nicht ‘gesehen’ werden. REM Aufnahmen werden gelegentlich angefertigt, um die Partikelform zu prüfen oder REM-Aufnahmen zu erzeu­gen, wovon einige in diesem Doku­ment ersichtlich sind. REM kann jedoch infolge der hohen Kosten und der statistisch ungenügenden Anzahl Partikel nicht als routinemässiges Prüf­ins­tru­ment eingesetzt werden.

Produkt mit Anwendung abstimmen

Auswahl des Mikronpulvers
Die Interpretation der Messdaten und die Auswahl des geeigneten Produktes für jede Anwendung benötigen beste Per­so­nal­aus­bil­dung. Die auf der Prüf­auf­zeich­nung aufgetragenen Graphiken und Zahlen bilden die Grund­in­for­ma­tio­nen über die Pro­dukt­qua­lität. Nun muss das Produkt noch mit der Anwendung abgestimmt werden.

Gewisse Anwendungen benötigen enge Verteilungen, worin die meisten Partikel annähernd gleich gross sind. Dies ist bei gebundenen Anwendungen wichtig, wie auch in einem 'kurzen' Polier- oder Läppzyklus, wo die Ober­flä­chen­rauheit direkt mit der Pulverkörnung zusam­men­hängt: der Läppzyklus ist be­deu­tend kürzer als die Standzeit des Schleifstoffes, oder das Pulver wird kon­tinu­ierlich zugegeben.

In gewissen Fällen wird jedoch eine breite Verteilung vorgezogen, zur Er­fül­lung der Bedürfnisse einer An­wen­dung mit 'langem' Polierzyklus: Die ursprüngliche Korngrösse des Pulvers vermittelt die Abtragsleistung, wobei die restliche Korngrösse, nach Abnützung des Pulvers, die Ober­flä­chen­güte bestimmt. Eine typische Anwendung dieser Art ist das Fein­po­lieren von Diamant-Ziehsteinen, oder das Läppen und Polieren von grossen Werkstücken.

Gewisse Anwendungen sind auf grosse Partikel äusserst sensitiv, wie z.B. gewisse Präzisions-Diamantscheiben oder 'Pellets' für die Bearbeitung von optischem Glas. In diesem Fall werden die Mikronpulver speziell für ihre Eigenschaften am oberen Ende der Verteilung ausgewählt.

Noch wichtiger ist folgender Punkt: wenn für eine Anwendung das geeignete Produkt bestimmt wurde, darf es von Lieferung zu Lieferung absolut nicht mehr variieren. Dies ist die grosse Stärke des Van Moppes Qualitäts-Systems. Es ist derart ge­stal­tet, dass die 'Diamantpulver-Variable' vom Arbeitsplatz eliminiert wird und dadurch für beständigere Produktion und Regelmässigkeit sorgt.

Der Mikron-Siebkorn Übergangsbereich

Definitionsgemäss schliessen Mikron-Dia­mant­pulver alle feinen Diamant­schleif­stoffe unter der feinsten kom­mer­­ziel­len Siebkorngrösse D46 (325/400) ein. Die Mikronpulver erstrecken sich von 0 bis ca. 120µ Mikron und über­decken deshalb zum Teil die Reihe der Siebkörnungen bis D76 (200/230). Für diesen Zweck hat Van Moppes ein Mess­ver­fah­ren zur richtigen Bestimmung der Kör­nungs­äqui­va­len­zen in diesem Bereich entwickelt, sowie auch zur Quali­täts­prü­fung der Siebkorngrössen im Schleif­be­reich. Die optischen Mess­gren­zen wurden durch zahlreiche Kon­troll­mes­sun­gen bestätigt.

Für die richtige Auswahl des Pulvers und ein gutes Produktkonzept ist es wichtig die Übereinstimmung zwischen den gröberen Mikronpulver und den äquivalenten Siebkörnungen zu beherrschen. Materialeigenschaften und Kalibrierung können zur Wahl eines Mikronpulvers oder der entsprechenden Siebkörnung führen, zur Erzeugung zuverlässigerer Werkzeuge.

Äquivalenzen zwischen  Sieb- und Mikronkörnungen

Siebkörnung
Mikron Äquivalenz
ISO / FEPA Bezeichnung Normal Hoch
D91 170/200    
D76 200/230 70-120  
D64 230/270 60-100 70-120
D54 270/325 54-80 60-90
D46 325-400 45-70 54-80
(D39) (400-500) 40-60 45-70
(D33) (500-600) 36-54 40-60
    35-45  
    30-40  

Beurteilung und Messung der Oberflächengüte

Beurteilung der Oberflächengüte
Mikron-Diamantpulver werden meistens zur Erzeugung einer gewissen Oberflächengeometrie auf hartem Material eingesetzt, mit einer bestimmten optischen oder geometrischen Beschaf­fenheit. In gewissen Fällen muss die Oberfläche nur opti­schen Kriterien entsprechen, aber oft muss die Rauheit auch in vorgeschriebenen Grenzen liegen. In diesem Fall wird die Ober­flä­chen­rauheit mittels speziellen Messinstrumenten bewertet.

Die Messung der Oberflächenbeschaffenheit ist im ISO Standard 4287 ausführlich beschrieben. Hier beziehen wir uns jedoch nur auf die Rauheitsmessung einer Oberfläche, welche häufig für die Bewertung einer mittels Mikron-Diamantpulver bearbeiteten Oberfläche massgebend ist. Die Oberflächenrauheit wird mittels R-Kenngrössen charakterisiert, wie z.B. Ra, Rz oder Rt.
Bemerkung: Die W-Kenngrössen beziehen sich auf die Welligkeit eines Oberflächenprofils und die P-Kenngrössen auf das Primärprofil vor gewissen geometrischen Anpassungen. Weitere Erläuterungen sind in ISO Standard 4287, 3274, 4288 und 11562 zu finden.

Einige Definitionen
Profilspitze Hervorragender Profilteil, über der Mittellinie
Profiltal Hineinragender Profilteil, unter der Mittellinie
Ordinate Höhe von Profiltal + anliegende Spitze
Einzelmessstrecke Länge einer Messung (Lr)
Messstrecke Summe mehrerer Messlängen
R-Kenngrössen aus Rauheitsprofil berechnet
W-Kenngrössen aus Welligkeitsprofil berechnet
P-Kenngrössen aus Primärprofil berechnet

Messung der Oberflächenrauheit
Untenstehende Tabelle beschreibt die üblichsten Kenngrössen der Messung von mittels Mikronpulver bearbeiteten Oberflächen. Die Messeinheit ist der Mikrometer oder Mikron (μm), der Nanometer (nm) oder das Angstrom (Å), je nach der ge­brauch­ten Körnung oder der erzielten Oberflächenrauheit:
(1 μm = 1’000 nm = 10’000 Å).

Rauheitsprofil







Beschreibung der üblichsten Kenngrössen
Diese meist gebrauchten Kenngrössen sind im ISO 4287 Standard beschrieben, sowie auch zahlreiche andere wie Profilwelligkeit, Rillenbreite und Abstand von Profilelementen, relativer Materialanteil des Profils, Profilsteilheit und -schiefe, usw. Alte, jedoch immer noch gebrauchte Kenngrössen sind in Klammern aufgeführt.

Art der MessungKurzbeschreibung der MessungKenngrösse
Rauheitsmesswerte
über eine Einzel-Messlänge
Grösste Profilspitze über der Mittellinie
Rp
Tiefstes Profiltal unter der Mittellinie
Rv (Rm)
Summe von höchster Profilspitze und tiefstem Profiltal
Rz (Ry)
Mittelwert der Ordinaten (Spitze + anliegendes Tal)
Rc
Durchschnittliche Messwerte über eine Einzel-Messstrecke Arithmetisches Mittel der absoluten Ordinaten über eine Einzel-Messstrecke
Ra
Quadratischer Mittelwert der Ordinaten über eine Einzel-Messstrecke
Rq
Messung über die ganze Messstrecke (Summe aller Einzel-Messstrecken) Summe der höchsten Spitze und des tiefsten Tals über die ganze Messstrecke
Rt (Rmax)

Beziehung zwischen Oberflächenrauheit und Qualität des Mikronpulvers
Diese Beziehung ist in grossen Linien folgende: Ra wird hauptsächlich durch die Mediane der Korn­grös­sen­vertei­lung (d50) bestimmt, sowie Partikelform. Rt (Rmax) wird hauptsächlich durch den oberen Teil der Verteilung bestimmt (z.B. das kumulative d95 oder d99), sowie auch Partikelform. Übergrosse Partikel und Partikel-Agglomerate verursachen eher grosse, einzelne Kratzer. Es muss also unbedingt die geeignete Mikron­pulver-Qualität gebraucht werden und diese darf von Lieferung zu Lieferung nicht ändern. Das ist genau was Ihnen Van Moppes garantiert und liefert.

Die Erzielung der genauen, gewünschten Oberflächengüte beruht auf der geeigneten Auswahl von Korngrössen und der geeigneten Reihenfolge der Läpp- und Poliervorgänge. Bei kurzen Bearbeitungszyklen (mit kontinuierlicher Pulver­zugabe, worin das Pulver nicht abgenützt wird) ist die Ober­flä­chen­güte durch die Korngrösse bestimmt. In einem langen Zyklus (ohne Pulverzugabe), ist sie durch die Korngrösse des abgenützten Pulvers bestimmt.

Lösung von Rauheitsproblemen
In einem etablierten Läpp- oder Polierverfahren ist ein unerwarteter Verlust an Oberflächengüte üblicherweise auf eine eher einfache Ursache zurückzuführen. Es müssen also zuerst folgende Punkte geprüft werden:

  • Änderung in Arbeitszyklus, Arbeitszeit oder in der Reihenfolge der Pulverkörnungen?
  • Änderung im Werkstück, im Mikronpulver oder in den Arbeits­para­metern?
  • Wurde das Pulver sachgemäss in die Läppflüssigkeit ein­ge­mischt; wurde es mittels Ultraschall dispergiert? Restliche Agglo­me­ra­te sind bei weitem die häufigste Ursache von Pro­blemen.
  • Wurde Schleifmittel kurz vor Ende des Läpp­zyklus zuge­geben?

Bemerkung: Ein langsamer Poliervorgang, oder eine tiefe Abtrags­rate können einen Verlust an Oberflächengeometrie verur­sachen. Falls keiner dieser Punkte hilft das Problem zu lösen, sollten Sie uns sofort anrufen. Wir sind jederzeit bereit Ihnen zu helfen.

Achtung auf optische Täuschungen !
Eine klare und glänzende Ober­­flä­­che bedeutet nicht un­be­­dingt gute geome­tri­sche Be­schaf­­fen­­heit, jedoch nur eine gute optische Eigen­schaft. Die erforderlichen Eigen­schaf­ten der Oberfläche müssen also vor jedem Läpp- oder Poliervorgang jeweils zuerst genau definiert werden.


Physikalische Eigenschaften von Diamant und CBN Körnungen

Produktart Siebkorn und
Mikronpulverer
Bezeichnungen
Beschich-
tungsart
Beschich-
tungsfaktor
Dichte Spezifisches
Volumen
Bruttogewicht von
100 Karat Netto-Produktgewicht
g/cm3 cm3/g Karat Gramm
Nicht ummantelter 
Diamant
SSX, SSO
SYP, SYG, SYS, SYT, SYM
SYV, SYR, RBM, PM
FMD, FRD
n.a. n.a. 3.52 0.284 100.0 20.00
Ummantelter
Diamant
SYR-..30Ni SYV-..30Ni
FRD-..N30
30% Ni 1.43 4.23 0.236 142.8 28.56
FRD-..C50 50% Cu 2.00 5.04 0.198 200.0 40.00
RBM-56Ni SYR-56Ni
FRD-..N56
56% Nu 2.27 5.12 0.195 227.3 45.46
FMD-..T2 2% Ti 1.02 3.59 0.280 102.0 20.40
FMD-..TN56 56% Ti/Ni 2.27 5.12 0.195 227.3 45.46
Nicht ummanteltes
CBN
CBN-A, CBN-B
FRD-..
n.a. n.a. 3.48 0.287 100.0 20.00
Ummanteltes
CBN
CBN-A60Ni
FBN-..N60
60% Ni 2.50 5.26 0.190 250.0 50.00
FBN-..T2 2% Ti 1.02 3.53 0.283 102.0 20.40
FBN-..TN60 60% Ti/Ni 2.50 5.24 0.191 250.0 50.40